12 厘米 RF 离子源

设计用于改进长时间离子束沉积工艺生产

利用 Veeco 12 厘米 RF 离子源改进长期连续反应性工艺的性能和质量，例如高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积。它具有业界唯一的无丝状 RF 中和器，其维护工作少，支持长时间的运行。12 厘米 RF 离子源非常适合于使用含 100% 氩气、氧气或其他反应性气体的工艺。