物理气相沉积

物理气相沉积

NEXUS PVD-1 物理气相沉积系统

NEXUS PVD-1 物理气相沉积系统

适用于多种应用且简单易用的多功能工具

Veeco NEXUS PVD-1 单晶片物理气相沉积模块提供所需的简单性、可靠性和性能。该系统兼容各种晶片尺寸,可定制用于多种数据存储应用场合(例如氧化物和氮化物沉积)和磁性材料。它还为半导体、GaAs 和封装应用场合提供了高性能、低成本工具。

  • 轻松配置可满足特定加工和生产需求
  • 支持从 3 英寸到 8 英寸的圆形晶片尺寸
  • 标准附件包括阴极、晶片夹头、气体多支管、快门和泵包装
  • 模块化降低了操作员和维护人员培训要求以及备件库存
  • 经过设计可与 NEXUS 离子束蚀刻、离子束沉积和其他物理气相沉积工具进行快速简单的集成

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