物理气相沉积

物理气相沉积

NEXUS PVDi 物理气相沉积系统

NEXUS PVDi 物理气相沉积系统

适用于各种应用的灵活沉积平台

Veeco 单目标 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统可为各种薄膜沉积应用提供最大灵活性。NEXUS PVDi 沉积厚度可达 200 毫米,具有高级加工功能、无可比拟的均匀度和多种沉积模式。

  • 卓越的可靠性和均匀度有助于提高工艺良率
  • 增加生产量和正常运行时间,从而降低拥有成本
  • NEXUS 平台集成了多种 Veeco 技术(例如离子束沉积、离子束蚀和原子层沉积)

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