离子束溅镀

离子束溅镀

用于光学镀膜的 SPECTOR-HT 离子束溅镀系统

用于光学镀膜的 SPECTOR-HT 离子束溅镀系统

达到物理气相沉积速率的离子束光学镀膜

配备 SPECTOR-HT™ 高级离子束溅镀系统,不仅可以生产出质量最佳的光学薄膜,还可以提升生产率和产量。SPECTOR-HT 系统以 SPECTOR® 离子束系统系列久经考验的优异性能为基础,可实现极佳的层厚度控制和更出色的工艺稳定性,而且光损耗在业内已公布的数据中也属最低。

对于带通滤波器、分束器以及无源式激光器等前沿光波干扰镀膜应用,SPECTOR-HT 的设计可以改善一些关键生产参数,如靶材利用率、光学端点控制和加工时间。SPECTOR-HT 将离子束溅镀 (IBS) 技术的诸多固有优势——低散射损耗、高薄膜纯度、稳定的沉积率和低于 0.1 纳米的薄膜厚度控制——整合到一个更为强大的套件中,从而显著提升制造商的产量并降低其拥有成本。

  • 通过改善沉积率和增大批量,系统产量最高可以增加 400%
  • 靶材利用率最高可以增加 300%、减少维护并改善整体拥有成本
  • 专为提高薄膜均匀度而优化的刀具几何结构与固有的 IBS 加工技术优势相结合,可使材料均匀度提升 50%。
  • SPECTOR-HT 专为实现工艺灵活性而设计,可通过多种途径提高工艺灵活性:我们最新一代的工艺控制系统具备友好的操作界面,批量更大,工艺选择更丰富,沉积率稳定,可以实现无人值守的系统操作
  • 著名 2013 年 R&D 100 大奖获得者

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