金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

用于 LED 生产的 TurboDisc EPIK 700 GaN MOCVD 系统

用于 LED 生产的 TurboDisc EPIK 700 GaN MOCVD 系统

将最佳良率和最高生产率相结合,有效降低 LED 生产成本。

Veeco 获奖的 EPIK® 700 MOCVD 系统是 LED 行业生产率最高的 MOCVD 系统,与前几代产品相比,可使每晶片的成本降低高达 20%。EPIK 700 拥有单反应腔和双反应腔配置并采用突破性技术,包括新的 IsoFlange™ 中心注入流以及可在整个承载盘中提供均匀的层流和统一温度曲线的 TruHeat™ 晶片线圈。这些技术创新保证了波长的均匀度,从而能够进一步提高良率。由于反应腔容量的增大,EPIK 700 的吞吐量可比其他系统高出 2.5 倍。

专为批量生产而设计的 EPIK 700 可容纳 31x4 英寸、12x6 英寸和 6x8 英寸的承载盘。客户可以很轻松地从现有的 TurboDisc 系统切换到新的 Epik 700 MOCVD 平台,从而快速启动高品质 LED 的生产。凭借 EPIK 700 MOCVD 平台的灵活性,将来还能在此基础上进行升级和改进,使得这个世界一流的系统一直保持与众不同。

  • 与前几代产品相比,每晶片成本节省高达 20%
  • 同类最佳的均匀度和工艺重现性能够进一步提高良率
  • 行业生产率最高的反应腔可带来比以前反应腔高出 2.5 倍的生产量
  • 与 MaxBright™ MOCVD 相比,可通过成熟的自动化获得最大的产量、增强的维护便利性、更长的维护间隔以及改进的厂房面积利用率

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