技术与产品

Ultratech - Veeco 旗下部门

Ultratech 部门提供用于先进热处理的激光加工解决方案、用于先进封装的光刻技术,以及用于在线晶圆监控的检测系统。

金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

Veeco 提供一系列业界领先的 MOCVD 设备,主要用于在降低拥有成本的同时让产量达到最高。

光刻系统

Ultratech 的光刻步进器系列产品专门设计用于满足先进封装应用的独特需求

激光加工系统

Ultratech 开发了革命性的技术产品,可在 65 纳米技术节点及更高规格中实现热退火解决方案

晶圆检测系统

Ultratech 基于相干梯度敏感 (CGS) 的 3D 晶圆检测系统使晶圆厂能够在关键的加工步骤中检测图案化的晶圆。

精密表面处理系统

Veeco 的精密表面处理系统在先进封装、RF、MEMS、平板显示器和化合物半导体行业的湿法处理方面具有领先优势。

分子束外延 (MBE) 技术

Veeco 可提供业内最广泛且具有创新及可靠性能的分子束外延 (MBE) 系统。

离子束溅镀

Veeco 可为精密光学镀膜和光电设备提供广泛的离子束溅镀技术。

气体及气相传送系统

Veeco 的气体和蒸气输送系统旨在解决半导体生产商及铸造厂面临的关键问题——材料成本、工艺可重复性以及系统正常运行时间。

离子束系统及离子源

Veeco 提供行业领先的离子束蚀刻与沉积技术。

类钻碳

使用 Veeco 的 NEXUS DLC-X 系统,可沉积致密、均匀且可重复的类钻碳 (DLC) 薄膜,以获得耐久的 TFMH 滑片涂层和放置平台。

物理气相沉积

Veeco 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用场合提供了最大灵活性。

切割和研磨系统

Veeco 的切割和研磨系统可为读写记录磁头、LED、太阳能电池、微电子和光电系统等广泛的应用领域提供高效的切割解决方案。

原子层沉积

Veeco 的原子层沉积系统(Savannah、Fiji 和 Phoenix)设计用于沉积厚度完全一致(甚至在孔隙、沟槽和空腔中也是如此)的无针孔涂层。