专用源

Veeco 提供最全面的 MBE 源选择，其中包括单灯丝和双灯丝设计。

低温气体源

借助 Veeco 的低温气体源，可低成本地为分子束外延 (MBE) 系统引入 CBr4 和 NH3 等源气体……
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适用于氧、氮和氢的 UNI-Bulb RF 等离子源

……可提供电子和光电材料的 GaN 生长最佳条件以及优异的等离子稳定性和可重现性。
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气体裂解器

Veeco 气体裂解器适用于气体的高性能超高真空 (UHV) 交付，提供独特的功能以优化流量均匀性。
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可伸缩源

Veeco 可伸缩源能满足分子束外延 (MBE) 的基本限制，包括实现维护和系统正常运行时间的源容量、源去除。
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Atom-H 源

原子氢源是设计用于 1800-2200°C 下作业的全耐火金属材料源，与大多数制备室和……
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抗氨化源

Veeco 抗氧化长寿命源可实现中温和分压下的精确 MBE 操作。
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技术与产品

激光加工系统
光刻系统
离子束系统
沉积系统
溅射系统
蚀刻系统
离子源
有栅 DC 离子源
无栅 End-Hall 离子源
有栅 RF 离子源
类钻碳
金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)
湿法处理系统
分子束外延 (MBE) 技术
MBE 系统
MBE 源
掺杂剂
高温
低温
中温
专用源
MBE 组件
原子层沉积 (ALD)系统
原子层沉积 (ALD) 概述
ALD 优势
用于研究的 ALD
用于生产的 ALD
有关 ALD 的行动
ALD 材料
ALD 应用
用于 3D 纳米加工的 ALD
III-V 半导体器件
电池
硫属元素化物
电子
封装
自组装单分子膜 (SAMS)
水分解
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ALD 研究
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物理气相沉积系统
切割和研磨系统
气体及气相传送系统