借助 Veeco 原子氢源，将 H2 在高温下快速、可靠地热裂解为原子氢以用于分子束外延 (MBE)。此全耐火金属材料源设计为在 1800-2200°C 下运行，并且与大多数制备室和生长室兼容。除了高温 MBE，原子氢还非常适合于低温原位基底清洁和结构过生长制备。

• 将 H2 裂解为原子氢的专用高温热裂解器 - 适用于基底清洁和 MBE 生长过程
• 气体导管内的钨加热器丝可在 1800-2200°C 下工作
• 可在 2.75"/70mm 水冷锎安装法兰上使用，与大多数制备室和生长室兼容
• 非常适合于低温原位基底清洁和结构过生长制备
• 应用包括促进二维 GaAs 生长、提高 GaN 生长和选择外延

Veeco 原子氢源的原子氢裂解效率在固体源 MBE 中被用于与外延和基底清洗有关的各种应用领域。人们使用自制裂解器源产生的热裂解 H2 获得了许多报告结果。