Propel 300mm GaN 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统，用于 5G、光电和 CMOS

全自动，单晶片簇系统可实现生产 5G RF、光电和 300mm 基质上的高级 CMOS 设备。

Propel™ 300mm 全自动单晶片集群系统是唯一经过行业验证的 GaN MOCVD 工具，可在 300mm 基质上生产 5G RF、光子和先进 CMOS 器件。

Propel™ 300mm 系统采用单晶片反应器平台，能够在 300mm 晶片上生产出同级优异的高质量外延膜，具有出色的均匀性、可重复性和良率。Propel™ 300mm 系统可配置多达 3 个模块化集群腔室，并提供自动盒到盒处理功能，以实现尽可能高的灵活性和生产效率。

单晶片反应腔基于 Veeco 的领先 TurboDisc® 设计，包括 IsoFlange™ 和 SymmHeat™ 技术，其可在整个晶片上提供层流和均匀的温度曲线。客户可轻松将工艺从 Veeco 单晶片反应器 Propel 和 Propel HVM 系统转移到 Propel 300mm GaN MOCVD 系统，以实现从开发到生产的快速转移。