切换导航
English
中国
日本
台灣
한국
投资者
工作机会
新闻/博客
联系我们
English
中国
日本
台灣
한국
市场
半导体
化合物半导体
数据存储
科学和其他
技术与产品
激光加工系统
光刻系统
离子束系统
沉积系统
溅射系统
蚀刻系统
离子源
有栅 DC 离子源
无栅 End-Hall 离子源
有栅 RF 离子源
类钻碳
金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)
SiC CVD 系统
湿法处理系统
分子束外延 (MBE) 技术
MBE 系统
MBE 源
掺杂剂
高温
低温
中温
专用源
MBE 组件
原子层沉积 (ALD)系统
原子层沉积 (ALD) 概述
ALD 优势
ALD for Research & Development
ALD for Manufacturing and Production
有关 ALD 的行动
ALD 材料
ALD 应用
用于 3D 纳米加工的 ALD
III-V 半导体器件
电池
硫属元素化物
电子
封装
自组装单分子膜 (SAMS)
水分解
ALD 知识中心
ALD 周期表
ALD 研究
ALD 服务
物理气相沉积系统
切割和研磨系统
气体及气相传送系统
服务与支持
公司
领导团队
工作机会
历史
质量
新闻/博客
企业社会责任
公司文化
投资者
工作机会
新闻/博客
联系我们
Latest News/Blogs
新闻/博客
Veeco Announces Governance and Diversity Improvements to Its Board of Directors
2020 年 5 月 07 日 | 新闻
Veeco Announces Location Change for Its Annual Meeting of Stockholders
2020 年 4 月 17 日 | 新闻
Veeco 任命新的销售和服务高级副总裁
2020 年 4 月 13 日 | 新闻
VEECO ANNOUNCES DATE FOR FIRST QUARTER 2020 FINANCIAL RESULTS AND CONFERENCE CALL
2020 年 4 月 08 日 | 新闻
Veeco 提供与 COVID-19 相关的业务更新
2020 年 3 月 31 日 | 新闻
Veeco 提供 2020 年第一季度与 COVID-19 相关的业务更新
2020 年 3 月 17 日 | 新闻
Veeco 推出金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统套件以实现高性能光电设备
February 04, 2020 | 新闻
Veeco Appoints John P. Kiernan Senior Vice President and Chief Financial Officer
2020 年 1 月 02 日 | 新闻
Precision Optics 领导者订购多个 Veeco 光学涂层系统,用于环形激光陀螺仪镜
2019 年 9 月 10 日 | 新闻
Veeco 技术领导层在原子层沉积 (ALD)/ALE 2019 会议上演讲
July 18, 2019 | 新闻
11 of 13
« Previous
1
…
9
10
11
12
13
Next »
×