6 厘米 x 66 厘米 RF 离子源

可为大规模基底提供高度均匀的离子束制程

作为大规模基底的均匀制程的理想之选，Veeco 的 6 x 66 厘米 RF 线性离子源可针对长期不间断的生产运行为 100% 的氩气、氧气和其他反应气体提供低维护、无丝状操作。

• 为预清洁、蚀刻及离子束辅助沉积 (IBAD) 应用提供恰当的电源密度和均匀度。
• 水冷
• 在惰性和氧化环境中均能实现可靠一致的操作
• 运行功率从低到高
• 业界唯一的无丝状 RF 中和器使更长期的生产运行成为可能
• 可选的 4 网格设计提供了非常高的准直性
• 稳定高效的等离子体操作具有精确控制能力并允许高重复性