Fiji – 用于研发的等离子增强原子层沉积 (ALD)
高级研究的先进功能
我们的 Fiji® 系列是一款模块化的高真空热原子层沉积 (ALD) 系统，其使用灵活的架构和多种前体和等离子体气体的配置，可适应各种沉积模式。Fiji G2 是下一代原子层沉积 (ALD) 系统，能够执行热和等离子体增强沉积。
我们应用了先进的计算流体动力学分析来优化 Fiji® 反应腔、加热器和捕获器几何结构。系统的直观界面有利于轻松监控和根据需要更改配方和流程。
Fiji 的高级功能包括：
- 专有腔室涡轮泵系统
- 改善的等离子体设计
- 人体工程学操作员界面
- 原位椭圆偏振术
- 原位石英晶体微平衡
- 集成臭氧
- 手套箱接口
Fiji® 可以配置多达 6 个前体线以适应固体、液体或气体前体，和 6 个等离子体气体管路，在紧凑且经济实惠的面积中提供显著的实验灵活性。
下载我们最新的白皮书：以色列理工学院的研究人员使用 Veeco 的 Fiji® Plasma ALD 系统，发布了 ALD 氮化物薄膜中接近创纪录的低氧掺入率和近体质量电阻率
技术规格
| 操作模式 | Continuous Mode™（传统热原子层沉积 (ALD)） Exposure Mode™（高纵横比原子层沉积 (ALD)） Plasma Mode™（等离子体增强型原子层沉积 (ALD)） |
| 基质尺寸 | 最多 200 mm |
| 基质温度 | 500°C 200mm 基质加热器标准 800°C 100mm 基质加热器可选 |
| 沉积均匀性 | 在 200 mm 基质上实现 1 σ 厚度均匀性 热敏 Al2O3 – < 1.5% 等离子 Al2O3 – < 1.5% |
| 前体 | 4 前体线标准，6 可选 可独立加热至 200°C 的气体、液体或固体前体 行业标准高速原子层沉积 (ALD) 阀（最小脉冲时间为 10ms） 广泛可用 50cc（最大 25mL 填充）不锈钢前体汽缸 |
| 气体 | 100 sccm Ar 前体载气 MFC 500 sccm Ar 等离子体气体 MFC 100 sccm N2等离子 MFC 100 sccm O2等离子 MFC 100 sccm H2等离子 MFC |
| 捕获器 | 集成、加热、薄箔原子层沉积 (ALD) 捕获器 |
| 兼容性 | 洁净室级别 100 兼容 |
| 合规性 | CE、TUV、FCC
SEMI S2/S8（可选） |
| 尺寸 | Fiji 系统（基础）： 1600 x 715 x 1920 毫米 Fiji 带负载锁： 1845 x 715 x 1920 毫米 |
| 功率 | 220-240 VAC，4200 W/反应腔（不包括泵） |
| 控制 | Microsoft Windows™ 10（或更高版本）笔记本电脑，基于 LabView 的系统控制 |
| 真空泵 | 需要 >50 CFM 干泵 提供或客户提供 |
| 系统选项 | 光谱椭圆偏振计端口 石英晶体微平衡 RGA 端口 光学发射光谱仪 晶片 + 臭氧发生器 低蒸汽压力沉积 手套箱接口 自动负载锁定基质射频偏压 有害气体传感器/安全 PLC 负载锁移交至其他真空设备 |