GENxplor R&D MBE 系统

业界最先进的、由领先研究人员选择的高性能研发系统

GENXplor
荣获化合物半导体制造 CS 行业奖的 GENxplor® 研发分子束外延 (MBE) 系统使用 Veeco 公认的 3″生长室设计,具备无与伦比的工艺灵活性,是新兴技术材料研究——例如 UV LED、高效率太阳能电池和高温超导体——的完美之选。其高效的单帧设计将所有真空硬件与板载电子设备结合在一起,使其尺寸比其他分子束外延 (MBE) 系统小 40%,节省了宝贵的实验室空间。因为手动系统集成在单个框架上,缩短了安装时间。GENxplor 上的开放式架构设计也改善了易用性,与其他 MBE 系统相比,更方便访问泻流室,维护起来更为轻松。
  • 基质上高质量外延层的直径长达 3 英寸
  • 极端电子束温度加热器 (>1850°C)
  • 独特的单帧结构易于使用,提供便捷的源访问和改善的可维护性
  • 高效的一体式设计将手动系统与车载电子器件相结合,比其他 MBE 系统节省了 40% 的实验室空间
  • GaAs、氮化物、氧化物等各种材料的尖端研究的理想之选
  • Molly® 软件集成简单程序编写、自动生长控制和“始终开启”的数据记录三大功能
  • 选配的 Nova™ 超高温衬底加热器性能被证实可达 1850°
  • 直接扩展至 GEN20™、GEN200® 和 GEN2000® MBE 系统

CS 行业创新奖 - GENxcel 分子束外延 (MBE) 系统

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