适用于光电应用的 Lumina AS/P 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统

以超过 20 年的丰富金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 经验启用基于 As/P的光电设备
Lumina® 系统基于 Veeco 业界领先的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) TurboDisc® 技术，在长时间的生产过程中，其具有卓越的均匀性和低缺陷率，带来出色的产量和灵活性。此外，Veeco 的专有技术也提供均匀的热控制，可实现卓越的厚度和组合均匀性。该系统提供无缝晶片尺寸过渡，能够在直径达 8 英寸的晶片上沉积高质量 As/P 外延层。Lumina 系统允许用户自定义系统以实现最大价值。