Mark II+ 无栅高能离子源

适用于需要高电流、低能量离子的应用

Mark II+ 无栅高输出离子源采用空心阴极，适用于直径介于 70-130 厘米的加工室中的真空镀膜制程。

• 适合于需要高电流、低能量离子的表面预清洁和辅助沉积等应用领域
• 改进了对薄膜应力和化学计量的控制
• 水冷
• 非常适合于精密或工业光学镀膜环境
• 灵活的整合使节省空间的系统设计和广泛的射束角度成为可能
• 根据制程要求，可配置为带灯丝或不带灯丝