NEXUS IBE 离子束蚀刻系统
在广泛的能源和工艺方面提供了优异的均匀度
使用 NEXUS® IBE™ 离子束蚀刻系统，可最大程度地增加滑片良率，实现优异的离子束蚀刻一致性。IBE 系统在广泛的能源和工艺方面提供了优异的一致性，便于实现新一代 ABS 步进和空腔加工的蚀刻深度控制。
- 优异的均匀度和增强的蚀刻深度控制
- 实现了最高的产量，减少了不必要的配件以实现最低成本
- 在世界一流的 NEXUS 硬件和软件平台上很容易与常用技术集成
- NEXUS 离子源提高了蚀刻一致性和工艺可重复性
- 还可一并提供 RF350 源，以供工艺中需要 RF350 源的生产部门加以合规使用
- 平台可以低成本地现场升级到 NEXUS 离子源
