NEXUS DLC-X 类钻碳系统

超硬抗腐蚀 TFMH 涂层薄膜技术


使用 Veeco 的 NEXUS DLC-X 系统,可沉积致密的、一致且可重复的薄类钻碳 (DLC) 薄膜,以获得耐久的薄膜磁头 (TFMH) 滑片涂层和放置平台。Nexus DLC-X 拥有行业领先的适合生产的脉冲滤波阴极电弧源,可实现小于 20A 的涂层厚度,与上几代产品相比,可支持改进的步进范围,实现更好的工艺产出。

  • 脉冲滤波阴极电弧提供了优异的均匀度、可重复性和薄膜硬度
  • 长移距、低压 PVD 提供了致密的、无针孔硅种子层
  • 支持反应 PVD 工艺
  • 可调整的低能量 NEXUS 420 离子束蚀刻源可实现从 75 伏特到 300 伏特束流能量下稳定地工作
  • 倾斜的椭圆偏振计,便于蚀刻和沉积端点控制

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