NEXUS IBD-LDD 离子束沉积系统

离子束产品中持续领先地位 25 年，可实现今天的无缺陷远紫外线 (EUV) 面罩基板

光掩模制造需要最高级别的颗粒控制，同时沉积复杂的多层膜结构。Veeco Nexus IBD-LDD 离子束沉积系统可轻松满足这一要求。自 1990 年代起，Veeco 便成功满足光掩模市场需求，而多年的研究则成就了当今最先进的系统。IBD-LDD 系统非常适合当今在远紫外线 (EUV) 光罩基底上的钼 (MO) 和硅 (SI) 多层沉积和钌 (RU) 封盖层沉积，以及需要低缺陷水平和先进薄膜的其他掩模应用。

• • 经过生产验证的平台
  • 最低缺陷密度
  • 出色的均匀度和可重复性
  • 高反射率
  • 在同一生长室内沉积多层材料
  • 可以与其他加工模块一起集成到组合设备工具中