NEXUS PVDi 物理气相沉积系统
适用于各种应用的灵活沉积平台
Veeco 单目标 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用场合提供了最大灵活性。NEXUS PVD 沉积厚度可达 200 毫米，具有高级加工功能、无可比拟的一致性和多种沉积模式。
- 卓越的可靠性和均匀度有助于提高工艺良率
- 增加生产量和正常运行时间，从而降低拥有成本
- NEXUS 平台集成了多种 Veeco 技术（例如离子束沉积、离子束蚀和原子层沉积）
Veeco 单目标 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用场合提供了最大灵活性。NEXUS PVD 沉积厚度可达 200 毫米，具有高级加工功能、无可比拟的一致性和多种沉积模式。