Savannah – 用于研发的热力原子层沉积 (ALD)
高级研究的先进功能
Veeco 是全球研究和行业原子层沉积 (ALD) 系统的领先供应商，提供可访问、经济实惠并具有原子量级准确性的综合服务和多功能交钥匙系统。薄膜沉积是我们的专长。我们的 Savannah® 系列薄膜沉积工具展示了这些能力。
Savannah® 已成为全球大学参与原子层沉积 (ALD) 并寻找经济实惠且稳健平台的研究人员的首选系统。在过去十年中，我们已经交付了数百个此类系统。Savannah® 对前体的高效使用和节能功能大幅降低了操作薄膜沉积系统的成本。
主要功能包括：
- 原位椭圆偏振术
- 原位 QCM
- 自组装单层
- 2 秒周期时间
- 集成臭氧
- 低蒸汽压力沉积
- 批处理
- 手套箱集成
Savannah® 配备高速气动脉冲阀，可实现我们独特的 Exposure Mode™，用于超高纵横比基质的薄膜沉积。这种经验证的精密薄膜涂层方法可用于沉积横向比大于 2000：1 的基质上的保形、均匀薄膜。Savannah® 有三种配置：S100、S200 和 S300。Savannah® 能够保持不同尺寸的基质（S300 高达 300mm）。Savannah® 薄膜沉积系统配备加热前体线和增加最多 6 条线的选项。Savannah® 能够处理气体、液体或固体前体。
Savannah® G2 技术规格
| 基质尺寸 | Savannah S100：最多 100 mm Savannah® S200：最多 200 mm Savannah® S300：最多 300 mm |
| 尺寸（宽 x 深 x 高） | Savannah S100：585 x 560 x 980 毫米 Savannah® S200：585 x 560 x 980 毫米 Savannah® S300：686 x 560 x 980 毫米 |
| 柜 | 带有可拆卸面板和可锁定前体门的白色粉末涂层的钢板 |
| 操作模式 | Continuous Mode™（高速）或 Exposure Mode™（超高纵横比） |
| 功率 | 115 VAC 或 220 VAC，1500 W（不包括泵） |
| 控制 | LabView™，Windows™ 7，Lenovo 笔记本电脑，USB 控制 |
| 最大基质温度 | S100：RT – 400 °C S200：RT – 350 °C S300：RT – 350 °C |
| 沉积均匀性 | （Al2O3) < 1% (1σ) |
| 周期时间 | 每周期 <2 秒（AL2O3在 200 °C 下） |
| 真空泵 | Alcatel 2021C2 – 14.6 CFM |
| 兼容性 | 洁净室级别 100 兼容 |
| 合规性 | CE、TUV、FCC |
| 前体输送系统，端口 | 2 线标准，最多 6 条线可用 每条线都适合固体、液体和气体前体 线可独立加热至 200 °C |
| 前体输送系统，阀门 | 行业标准高速原子层沉积 (ALD) 阀，响应时间 10 毫秒 |
| 前体气瓶 | 独立加热 50 ml 不锈钢气瓶，更大气瓶可选 |
| 承载器/排气气体 | N2质量流量控制，100 SCCM |
| 选项 | 低蒸汽压力输送 (LVPD) 系统 臭氧发生器 用于晶片盒或 3D 物体的圆顶盖 手套箱接口 原位椭圆偏振术 原位石英晶体微平衡 (QCM) 自组装单分子膜 (SAM) 颗粒涂层 |