用于生产的 ALD

用于生产的 ALD

大基质的均匀性、可重复性和低温沉积使原子层沉积 (ALD) 成为新一代大型制造薄膜技术的理想选项。

Veeco 通过扩展工艺并将其在全球各地的自动化线路和组合设备工具中实施,极大改善了原子层沉积 (ALD),使之成为制造级技术。与之前的涂层技术相比,集成了我们的原子层沉积 (ALD) 系统的制造商已享受到产品质量和可靠性的改善、运营成本的降低以及更环保的生产空间。

批量原子层沉积 (ALD) 工具:Phoenix®

如果您有生产原子层沉积 (ALD) 需求,那么我们的 Phoenix® 生产原子层沉积 (ALD)系统就是正确选择。Phoenix® 是一种能够一次容纳大量基质的批量原子层沉积 (ALD)工具。其独特的腔室设计可确保薄膜在各批次中保持精确
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HVM 原子层沉积 (ALD)工具:Firebird™

Firebird™ HVM 原子层沉积 (ALD) 系统拥有长期的广告活动和增强的服务能力,满足并超越小批量生产前评估直至升级生产的拥有成本要求。Firebird™ 提供每月多达 40,000 晶片的吞吐量,结合了一流的生产力、卓越的膜性能和较低的运营成本,满足您对专业晶片生产最苛刻的大批量生产需求。
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