有栅 RF 离子源

Veeco 的有栅 RF 离子源专为改善长时间运行的离子束沉积工艺的生产而设计。

有栅 RF 离子源

Veeco 的有栅 RF 离子源专为改善长时间运行的离子束沉积工艺的生产而设计。

NOVUS RF 离子源控制器

Veeco 的 NOVUS RF 离子源控制器拥有最先进的精密控制，可以为离子源操作提供稳定的功率……
阅读详情

6 厘米 x 22 厘米 RF 离子源

Veeco 的 6 x 22cm 有网格线性 RF 离子源设计用于具有基质的高效在线系统，非常适合……
阅读详情

6 厘米 x 66 厘米 RF 离子源

Veeco 的 6 x 66cm RF 线性离子源是大规模基质的均匀制程的理想之选，可提供低维护、无丝状操作……
阅读详情

16 厘米高功率 RF 离子源

Veeco 的 16cm RF 高功率 (HP)离子源非常适合用于反应性工艺，提供离子束均匀度……
阅读详情

16 厘米 RF 离子源

获得适用于反应性工艺（例如离子束辅助或离子束沉积 (IBD)）的宽均匀度离子束源……
阅读详情

12 厘米 RF 离子源

改进长期连续反应性工艺的性能和质量，例如离子束辅助或离子束沉积 (IBD)……
阅读详情