无栅 End-Hall 离子源
Veeco 的无栅 End-Hall 离子源可为真空镀膜工艺提供高束电流。
Veeco Mark I+ 无网格离子源可提高制程均匀性并防止基质受损。它提供了高光束……
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大幅度增大的射束电流和可拆卸阳极装置为 Mark II+ End-Hall 离子源增加了新的价值。
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借助 Mark II+ 离子源控制可最大化离子源性能、薄膜蚀刻、清洁及沉积均匀度。
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适用于需要高电流、低能离子的应用，Mark II+ 无网格高输出离子源设计为真空镀膜……
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