低温

Veeco 低温外延源可以为各种应用场合提供精确一致的低温外延源性能。

抗腐蚀系列阀式裂解器

抗腐蚀系列阀式裂解器具有卓越的流量控制效果，其复杂结构是传统控制源不可能……
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磷阀式裂解器

最佳投资回报的磷解决方案。
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硒阀式裂解器

硒阀式裂解器有多个加热区，可在阻止腐蚀性蒸气的化学侵蚀的同时……
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砷阀式裂解器

工业标准砷源
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抗氨化源

通过 Veeco 抗氨化长寿命源，可延长正常运行时间和降低维修成本。
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单丝源

作为经济高效的解决方案，单丝源是高蒸气压材料的理想选择。
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双丝源

双丝源采用两种独立的灯丝（主丝和端头丝）来加热坩埚，可增强加热控制。
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硫阀式裂解器

硫阀式裂解器可提供有效的材料保护和接近瞬时的流量调节，同时可抵抗化学侵蚀……
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SUMO 源

SUMO 源具有临界温度稳定性，是用于高蒸气压材料无阀蒸发的最佳源……
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抗氨化源

通过 Veeco 抗氧化长寿命源，可延长正常运行时间和降低维修成本。
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可伸缩源

Veeco 可伸缩源能满足分子束外延 (MBE) 的基本限制，包括实现维护和系统正常运行时间的源容量、源去除。
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技术与产品

激光加工系统
光刻系统
离子束系统
沉积系统
溅射系统
蚀刻系统
离子源
有栅 DC 离子源
无栅 End-Hall 离子源
有栅 RF 离子源
类钻碳
金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)
湿法处理系统
分子束外延 (MBE) 技术
MBE 系统
MBE 源
掺杂剂
高温
低温
中温
专用源
MBE 组件
原子层沉积 (ALD)系统
原子层沉积 (ALD) 概述
ALD 优势
用于研究的 ALD
用于生产的 ALD
有关 ALD 的行动
ALD 材料
ALD 应用
用于 3D 纳米加工的 ALD
III-V 半导体器件
电池
硫属元素化物
电子
封装
自组装单分子膜 (SAMS)
水分解
ALD 知识中心
ALD 周期表
ALD 研究
ALD 服务
物理气相沉积系统
切割和研磨系统
气体及气相传送系统