金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

Veeco 提供了一系列行业领先的 GaN 和 As/P 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统，旨在最大程度地提高吞吐量，同时降低包括显示器、3D 传感、LiDAR、微型 LED 显示器和光学数据通信在内的各种应用的拥有成本。

金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

Veeco 提供了一系列行业领先的 GaN 和 As/P 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统，旨在最大程度地提高吞吐量，同时降低包括显示器、3D 传感、LiDAR、微型 LED 显示器和光学数据通信在内的各种应用的拥有成本。

TurboDisc 反应腔：卓越的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 技术的核心

适用于光电应用的 Lumina AS/P 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统

Lumina 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 平台采用专有的 TurboDisc® 反应器技术，可实现卓越的膜均匀性、产量和设备性能……
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推进 HVM GaN 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统功率、5G RF 和光电

单晶片反应腔技术可实现高效和高质量，基于 GaN 的电源设备，5G RF 和光电应用 Veeco 的 Propel™ HVM…
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Propel 300mm GaN 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统，用于 5G、光电和 CMOS

全自动，单晶片簇系统可实现生产 5G RF、光电和 300mm 基质上的高级 CMOS 设备。…
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用于 LED 生产的 TurboDisc EPIK 868 MOCVD 系统

Veeco 的 EPIK 868 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统是 LED 行业生产率最高的 MOCVD 系统，与前几代产品相比，可使每晶片的成本降低约……
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推进 GaN 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统研发和生产

Propel™ 是一款高度灵活的、基于 GaN 的系统，用于研发和小批量生产，旨在加速工艺开发…
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