技术与产品

我们利用各种各样的核心能力将高价值技术解决方案转化为有利润且可持续的产品，以满足您的需求。

技术与产品

在适当的时间运用适宜的技术
我们利用各种各样的核心能力将高价值技术解决方案转化为有利润且可持续的产品，以满足您的需求。

激光加工系统

Veeco 开发了革命性的技术产品，可在最先进的技术节点实现热退火解决方案。

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光刻系统

Veeco 是光刻系统的市场领导者，此系统专为应对越来越小的线和空间挑战而设计。

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离子束系统

Veeco 无与伦比的离子束专有技术可提供可靠的蚀刻和沉积性能，使数据存储和 MEMS 市场持续数十年。

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SiC CVD 系统

凭借数十年积累的经验，我们在质量和良率方面提供了尽可能高的业绩，同时将运营成本降至最低。

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金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)

从 3D 传感、显示屏和 LiDAR 至微型 LED 或光学数据通信，我们的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统可确保您实现最大吞吐量。

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湿法处理系统

表面预处理对于确保用于汽车应用、医疗设备、5G 和云存储的高级微电子产品的可靠性至关重要。

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分子束外延 (MBE) 技术

使用我们可配置的分子束外延 (MBE) 系统，在每次制造一种晶体的情况下为任何应用创造异质化合物半导体材料薄膜。

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原子层沉积 (ALD)系统

随着半导体器件节点持续缩小，我们的原子层沉积 (ALD) 工具可以始终实现最佳精度和均匀性。

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物理气相沉积系统

Veeco 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用场合提供了最大灵活性，具有高级加工功能、无可比拟的均匀度和多种沉积模式。

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切割和研磨系统

先进的光电设备依靠使用先进的切割和研磨工艺创建的精密光学器件，以实现严格的公差和优异的平整性。

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气体及气相传送系统

先进的计算设备需要来自超高纯度环境的可靠性。我们的工具能够创造实质性的变化。

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