Mark II+ 控制器
旨在与 End-Hall 离子源的等离子特性相配合
借助 Mark II+ 离子源控制可最大化离子源性能、薄膜蚀刻、清洁及沉积均匀度。Veeco 将其设计为专门与 End-Hall 离子源的等离子特性相配合，有助于确保制程运行具有较高的生产力及精确控制离子束输出。
- 最先进的开关电源
- 整合式气体控制
- 自动电弧恢复
- 用户友好的图形界面和自动化功能可提高制程效率
- 可为高度均匀且稳定的离子束制程提供稳定、可靠的功率
旨在与 End-Hall 离子源的等离子特性相配合
借助 Mark II+ 离子源控制可最大化离子源性能、薄膜蚀刻、清洁及沉积均匀度。Veeco 将其设计为专门与 End-Hall 离子源的等离子特性相配合，有助于确保制程运行具有较高的生产力及精确控制离子束输出。