离子束系统

Veeco 无与伦比的离子束专有技术可提供可靠的蚀刻和沉积性能，使数据存储和 MEMS 市场持续数十年。

当材料至关重要时，您的高精度、高纯度薄膜层设备将通过我们的离子束沉积 (IBD)系统实现最大的一致性和可重复性。

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利用离子束沉积 (IBD) 系统打造具有最大一致性和可重复性的高精度、高纯度薄膜器件。

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NEXUS® 离子束蚀刻 (IBE) 系统拥有多种精密复杂的功能，可以大幅提高离散的微电子设备和组件的良率。

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Veeco 可为广泛应用提供最全面的离子束源，其中包括行业唯一的线性有栅离子源。

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您的微电子、医疗设备和汽车部件需要只有使用我们沉积系统生成的类钻碳膜才能实现的热阻和电阻率。

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离子束系统及离子源